集成电路电子废水处理特点有哪些？

随着电子等智能产品在我们生活中的逐渐普及，电子工业，尤其是集成电路芯片加工技术，已成为炙手可热的技术领域，作为电子产品的核心部件，集成电路的质量直接决定着电子整机产品的性能和可靠性。

在集成电路生产过程中，在硅氧化、光刻、外延、扩散、引线蒸发等许多工序之前，都要用物理或化学的方法除去硅片表面的污染物和自身的氧化物，使其达到净化要求，但也会产生大量的废水。伴随着我国“节能减排”的方针政策的实施，在电子工业用水大户的环评报告中明确提出，除废水排放标准外，还要求废水必须达到一定的再生利用率，实现循环经济。

目前，电子废水中，尤其是电子工业含氟含氨氮废水的处理，已成为水处理行业的突出难题之一。电子业含氟氨氮废水具有水量大，污染物组成复杂，污染程度高，易生化性差，总溶解固体盐(TDS)，氨氮和氟化物含量高等特点。因为这类废水的可生化性较差(BOD/COD<0.1)，而且由于城市污水处理厂的工艺技术限制，出水中的总氮往往不达标，容易导致排放水体富营养化，尤其是对某些特殊污染物(如氟)无法有效去除，只能通过稀释来降低浓度，在提高能耗的同时增加企业成本。根据IC清洗废水的特点，在处理时应考虑采用回用方式处理废水，设计了IC清洗废水回用系统用于处理该废水。