半导体废水处理工艺有哪些？

半导体集成电路行业是一个信息产业开展的基本，该行业在将来将会有迅猛的开展。随着制造范围的一直扩张，其制作运动对环境所形成的影响也会日益增添。芯片制造企业程度各有特征，创立契合行业特征的实在可行的消费废水废物的解决形式，对保护环境都有着深远的影响。半导体集成电路行业制程须要运用几百种化学品，废水废气处理工艺请求极高。

半导体废水处理工艺：

1、凝结积淀解决法

废水中氟的形态除有氢氟酸、氟化铵和氟化钠等以外，还有六氟硅酸等。清除这些化合物中含氟量用得最多的方式是增添Ca（OH）r。以上氟化物与Ca（0H）2反映生成溶解度低的氟化钙，这就是所谓的积淀分别解决法。

2、离子替换解决法

离子替换解决法重要是为了勤俭用水，使清洗。体系排出的废水高度污染到达再应用之目标。用离子替换解决法时，解决水中含氟浓度可到达1mg/l以下。此外还能同时去除氟离子以外的阳离子和阴离子。

半导体废水处理工艺特征：

1、三低一零

本体系淤泥产出量低、臭气产出量低、能量需求量低，化学品须要量最小或为零。

2、资源应用

经本体系解决后的回用水，满意严厉的工厂回用水品德请求，可供给纯水体系或间接回用到消费线。

3、性价比高

本体系操作便捷，抗冲击负荷，占地紧凑，稳固性高，运转老本低，经过少量成功案例验证。