半导体芯片废水处理工艺有哪些？
近年随着科技的一直提高和国民需求的日益增添，我国半导体消费行业得到了较快的开展，然而随之而来是少量的半导体废水排放问题。
（1）二级反映＋一级助凝＋一级积淀，体系出水氟离子浓度基础到达＜Zomg÷L请求；若增添一级积淀，即用二级反映＋积淀＋一级反映＋积淀的两阶段积淀反映，体系出水氟离子浓度可掌握在10mg/L以下。
（2）浓氨吹脱吸出工艺－含氟废水两阶段积淀工艺（含氟废水与CMP研磨废水混杂解决）一三级酸碱中和解决工艺。
（3）两级反映池、酸碱原液间接投加，运行出水不稳固且药剂消费量很大。
（4）反冲刷过滤器，是一种应用滤网间接阻拦水中的杂质，去除水体悬浮物、颗粒物，下降浊度，污染水质，增添体系污垢、菌藻、锈蚀等发生，以污染水质及掩护体系其余装备正常任务的装备。经反冲刷过滤器解决后的水质岂但到达了国度规则的废水排放规范，经反冲刷过滤器解决后的水源可反复、循环应用有效的节俭了水资源。
下一篇：如何选择工业废水处理供应厂家？上一篇：
半导体硅片废水处理方案有哪些？
