半导体废水处理污染物种类多，成分复杂，通常包括多种重金属废水，有机废水以及硅和氟废水。

关于半导体废水处理的方法：

1、HF浓废液

此废液至处理系统后，添加Na0H提升pH值至8~10之间，注入CaC12, Ca(OH)2 与HF反应向生成CaF2污泥，即HF+CaCl2+Ca(0H)2←CaF2+HCl+H20的反应式。去除氟离子之浓度量，而CaF2污泥产物与晶圆研磨废液混合，且添加高分子增进其沈降性，以利CaF2污泥经脱水机挤压过滤。污泥饼则委托代处理业者处理，另一产物HC1酸气由处理厂废气洗涤后排放，污泥滤液则注入调节池。

2、一般废水

包括HF洗涤废水，酸/碱性废水。经水系统树脂塔再生废液，废气洗涤废水等进入调节池 混合均匀，稀释后泵入调整中，添加NaOH、H2S04等酸碱中和剂，将之调整为6.0~9.0的pH值范围后放流入园区下水道。

3、回收处理单元

有机废液回收后将IPA溶剂、显影液及浓硫酸废液等分开收集，并委外处理。

浓缩液回收再利用——纯水系统设备产生之浓缩液，除供应原系统反洗，再生用外，更可补充大量飞散之冷却用水，如此不但降低排水量，亦可节省用水量。

纯水供应系统回收水—目前纯水供应系统可直接回收70%至纯水制造系统，另将制程之洗涤水回收以供冷却系统及卫生用水，此部份占20%，因此，纯水供应系统回收水已可达90%。

碱性再生废液—纯水系统碱性再生废液收集应用于废水处理系统之pH值调节用，如此可减少化学药剂之使用量。